Intel 打破原有路线：18A 引入 High NA EUV，为 14A 代工关键战役铺路-纯净之家

Intel 打破原有路线：18A 引入 High NA EUV，为 14A 代工关键战役铺路

时间：2026-07-17 15:29:08

作者：yanhong

来源：纯净之家

　　纯净之家 7 月 17 日最新消息，Intel 打破原有工艺路线，提前在 18A 工艺部分层级部署 High NA EUV 光刻机，而非等到 14A 节点才全面应用。

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　　Intel 确实是全球最早购买 High NA EUV 光刻机的，但 Intel 之前的路线图中，只有到 14A 工艺节点才会应用该技术，后者 2028 年才会试产，2029 年才会量产。

　　如今 High NA EUV 的量产提前了三年之多，确实让人想不到，虽然该工艺只是在 18A 工艺的部分层中量产，还不会取代当前的 low NA EUV 光刻机。

　　那 Intel 率先量产 High NA EUV 技术有什么意义？还真不是纯粹作秀，Intel 公布的信息显示，High NA EUV 光刻层的成本比当前的 EUV 成本还低，后者需要 40 多个步骤才能完成的曝光过程只需要用 High NA EUV 光刻机 1 次就能完成。

　　再往别的方面来看，Intel 在 18A 工艺上就率先使用 High NA EUV 工艺生产，可以为下一代的 14A 工艺排雷，提前部署可以积累经验，到了 14A 工艺大规模量产 High NA EUV 工艺的时候就能快速产能爬坡。

　　14A 工艺对 Intel 来说可能比 18A 工艺还要重要，不光是技术迭代，14A 是 Intel 争取苹果、谷歌、微软、亚马逊、Meta 等公司代工订单的核心一战，这一代再拿不下大客户的订单，Intel 在代工市场真的没什么机会了，哪怕美国政府再强制输血也没用。

　　此外，在 High NA EUV 工艺上，Intel 也能完成对台积电的一次超越 —— 过去十多年中 Intel 为什么在先进工艺上落后，很多人不知道的是 Intel 之前对 EUV 量产的进度非常保守，一直希望用 DUV+SAQP 多重图案之类的技术继续迭代，结果被台积电用率先量产 EUV 工艺彻底赶超了。

　　如今风水轮流转，台积电对 High NA EUV 光刻机意兴阑珊，A12 工艺之前都不会用，也就是 2030 年之前都不会量产 High NA EUV 工艺，而 Intel 这波量产直接提前了 4 年，实现了一次对台积电的技术领先。

　　至于双方这次押注到底谁能笑到最后，现在说还为时过早，等着看吧。